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超高真空和高真空閘閥是兩種用于控制真空度的設備,它們的主要區(qū)別在于工作壓力范圍和泄漏率。
高真空閘閥工作環(huán)境可以是常壓或低于常壓的環(huán)境。其泄漏率相對較低,可以在高真空環(huán)境下提供可靠的密封性能,通常用于實驗室、光學鍍膜、半導體加工等領域。
超高真空閘閥則可以控制更高的真空度范圍,更適用于需要超高真空環(huán)境下的應用。超高真空閘閥需要在超高真空系統(tǒng)中工作,通常使用在電子束焊接、分析儀器、核聚變研究等領域。超高真空閘閥的泄漏率也相對較低,以保證系統(tǒng)的高真空密封性能。
另外,超高真空閘閥的制造和使用也要比高真空閘閥更加復雜和嚴格,因為在超高真空環(huán)境下,即使微小的泄漏也可能會對系統(tǒng)造成影響。超高真空閘閥通常采用特殊的材料和制造工藝,以確保其在超高真空環(huán)境下的穩(wěn)定性和可靠性。
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